光刻技术指的是一种二进制图像传输过程,可用于增强许多微加工应用。
分类: 光刻技术
湿法蚀刻是一种将金属薄膜图案化为功能器件的技术。将覆盖有图案光刻胶的金属薄膜浸入液体中,选择性地去除金属暴露区域。 这种蚀刻方式是一种各向同性蚀刻法,即金属在各个方向的蚀刻速度相同。
纳米粒子可能会干扰制造工艺的行业需要使用无尘室来保持最高精度。无尘室可以控制设施的湿度、污染、温度和压力。
图案化薄膜对现代技术产生了巨大影响,虽然半导体元件通常是焦点,但金属表面在各种先进应用中也发挥了关键作用,如材料表征、生物传感器、化学传感器和微机电系统(MEMS)。
光刻技术是一种重要的微制造技术,用于为现代电子器件、传感器和微流控技术的基底进行图案化。它是一种精确的定制表面制造形式,在晶片的界面上涂覆一种称为光致抗蚀剂的光敏聚合物。然后将涂有涂层的晶片暴露在光下,光被掩膜选择性地衰减,留下潜像,再经过化学、物理或光学蚀刻,在晶片表面形成永久性的微结构图案。光刻技术与金属沉积和蚀刻技术相结合,是制造光学、化学和生物传感器以及微流控设备微结构的通用方法。