分类： 光刻技术

光刻技术指的是一种二进制图像传输过程，可用于增强许多微加工应用。

湿法蚀刻是一种将金属薄膜图案化为功能器件的技术。将覆盖有图案光刻胶的金属薄膜浸入液体中，选择性地去除金属暴露区域。 这种蚀刻方式是一种各向同性蚀刻法，即金属在各个方向的蚀刻速度相同。 

图案化薄膜对现代技术产生了巨大影响，虽然半导体元件通常是焦点，但金属表面在各种先进应用中也发挥了关键作用，如材料表征、生物传感器、化学传感器和微机电系统（MEMS）。

光刻技术是一种重要的微制造技术，用于为现代电子器件、传感器和微流控技术的基底进行图案化。它是一种精确的定制表面制造形式，在晶片的界面上涂覆一种称为光致抗蚀剂的光敏聚合物。然后将涂有涂层的晶片暴露在光下，光被掩膜选择性地衰减，留下潜像，再经过化学、物理或光学蚀刻，在晶片表面形成永久性的微结构图案。光刻技术与金属沉积和蚀刻技术相结合，是制造光学、化学和生物传感器以及微流控设备微结构的通用方法。