[카테고리:] 포토리소그래피

포토리소그래피는 다양한 미세 제조 애플리케이션을 향상시키는 데 사용할 수 있는 바이너리 이미지 전송 프로세스를 말합니다.

습식 에칭은 금속 필름을 기능성 소자에 패터닝하는 기술입니다. 패턴화된 포토레지스트로 덮인 금속 필름을 액체에 담가 금속의 노출된 부분을 선택적으로 제거합니다. 이 형태의 에칭은 등방성 방식으로, 금속이 모든 방향에서 동일한 속도로 제거됩니다. 

패턴화된 박막은 현대 기술에 막대한 영향을 미쳤으며, 일반적으로 반도체 소자가 주목을 받고 있지만 금속 표면은 재료 특성화, 바이오센서, 화학 센서 및 미세전자기계시스템(MEMS)과 같은 다양한 첨단 응용 분야에서 중요한 역할을 해왔습니다.

포토리소그래피는 최신 전자 제품, 센서 및 미세 유체학용 기판을 패턴화하는 데 사용되는 중요한 미세 제조 기술입니다. 포토리소그래피는 웨이퍼의 표면을 포토레지스트라고 하는 빛에 민감한 폴리머로 코팅하는 정밀한 형태의 맞춤형 표면 제작 기술입니다. 그런 다음 코팅된 웨이퍼를 마스크에 의해 선택적으로 감쇠되는 빛에 노출시켜 화학적, 물리적 또는 광학적으로 에칭된 잠상 이미지를 남기고 웨이퍼 표면에 영구적인 마이크로 구조 패턴을 제공합니다. 금속 증착 및 에칭 기술과 결합된 포토리소그래피는 광학, 화학 및 바이오 센서, 미세 유체 장치용 마이크로 구조를 제작하는 다용도 방법입니다.